A szilícium-nitrid-szubsztrát kiváló energiaképességű és nagy teljesítményű elektronikus eszközök alkalmazásához alkalmas.
A szilícium-nitridlap egy nagyteljesítményű amorf félvezető anyag, olyan előnyökkel, mint az alacsony veszteség, a nagy megbízhatóság és az elektromágneses hullámokkal szembeni nagy ellenállás.
A félvezető intézkedések révén a kerámia félvezető szemcsékkel és szigetelő (vagy félvezető) gabonahatárokkal rendelkezik, ezáltal erős interfész akadályokat és más félvezető tulajdonságokat mutatva.
A szilícium-nitrid szubsztrát működési elve elsősorban az egyedi fizikai és kémiai tulajdonságain alapul, amelyek lehetővé teszik, hogy kulcsszerepet játsszon a különféle csúcstechnológiákban.
A szilícium -nitrid egy fejlett műszaki kerámialemezek egy csoportja, nagy szilárdságú, törési szilárdsággal, keménységgel, kopásállósággal és jó kémiai és termikus stabilitással.
Az alumínium -nitrid (ALN) szubsztrát egy olyan anyag, amelyet különféle technológiai alkalmazásokban használnak, különösen az elektronika és a félvezetők területén. Itt található egy részletes áttekintés arról, hogy mi az ALN szubsztrát:
